一、真空箱式炉应用领域
该真空箱式炉以1800型硅钼棒为加热元件,采用双层壳体结构和40段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用氧化铝多晶纤维材料,真空箱式炉广泛应用于金属材料在低真空、还原性、保护性气氛下的热处理;也可以用于特殊材料的热处理。
二、真空箱式炉主要特点
炉门口安装有水冷系统,气体经过流量计后由后膛进入,并有多处洗炉膛进气口,出气口处有燃烧嘴,可以通氢气、氩气、氮气、氧气、一氧化碳等气体,能抽真空,真空度可达5pa,该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点,是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品。
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